EUV
En d'autres termes
Extreme UltraViolet
Définition
Lithographie à faisceau ultraviolet haute fréquence permettant théoriquement d'atteindre des finesses de gravure de semiconducteurs inférieures à 0.1 micromètre.
En 2001, l'industrie des semi-conducteurs est supposée mettre cette technique en oeuvre à partir de 2005.
